电子半导体超纯水系统是一种用于生产高纯度水的设备，专为满足电子半导体行业对水质的高要求而设计。其通过多级纯化工艺，将自来水或其他水源中的杂质去除，达到超纯水的标准。这些杂质包括离子、有机物、微生物、颗粒物等，以确保水质满足电子半导体制造过程中的严格要求。广泛应用于半导体制造、集成电路制造、平板显示器制造、光电子器件制造等领域。在半导体制造过程中，超纯水用于清洗、蚀刻、掺杂等工艺步骤，确保产品的质量和性能。
1、电阻率/电导率检测
使用在线监测仪或实验室仪器测量电阻率（≥18.2MΩ·cm为理想值）和电导率（<0.055μS/cm），需进行温度补偿以消除温度波动的影响。
验证直流与交流电阻率的差异，确保无痕量离子干扰。
2、微粒子计数与粒径分析
采用激光散射法统计水中直径>0.1μm的颗粒数量（应<1个/mL），并分析粒径分布偏差（±5以内）。
参照ISO215014标准规范操作流程。
3、总有机碳（TOC）测定
通过UV催化氧化法或气相色谱法检测TOC浓度（<1ppb为合格），评估系统对有机物的去除效率。
4、溶解氧与气体含量检测
溶解氧需<1ppb，传感器漂移量≤0.05ppb/月；总溶解气体应<10ppb，防止氧化腐蚀风险。
5、微生物与内毒素分析
细菌计数<1CFU/mL（培养时间48h±2h），内毒素≤0.03EU/mL，避免生物污染影响芯片制造良率。
6、关键离子浓度测定
钠离子<0.01ppb、钾离子<0.005ppb、总硅<0.01ppb，采用比色法或离子色谱法精准量化。
