简要描述：电子半导体超纯水系统设备通常有多介质过滤器，活性炭过滤器，精密过滤器等构成预处理系统，RO反渗透主机系统，离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。

当今，半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需要大量的纯水、超纯水清洗成品、半成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18.2MΩ·cm、15MΩ·cm、10MΩ·cm、2MΩ·cm、0.5MΩ·cm，以区分不同水质。其中，对于超纯水要求最关键的指标：电导率（电阻率），总硅，PH值，颗粒度等。因此，线路板、电路板使用纯水、超纯水因为本身工艺流程的不同对超纯水制造的工艺也不同，所以，杭州欧泉科技有公公司会根据客户的要求，设计适合客户用水的设备方案。

电子半导体超纯水系统工艺流程图

特征

电子半导体超纯水系统设备通常有多介质过滤器，活性炭过滤器，精密过滤器等构成预处理系统，RO反渗透主机系统，离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。水箱设有液位控制系统、水泵设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用模块化组合PLC，及通信远程输送至中控室上位机，实现现场就地和集中控制两种操作方式，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其他同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

应用领域

电子化学品，集成电路，光刻机，以及泛半导体行业用水等。