电子半导体超纯水系统是一种用于生产高纯度水的设备，专为满足电子半导体行业对水质的高要求而设计。其通过多级纯化工艺，将自来水或其他水源中的杂质去除，达到超纯水的标准。这些杂质包括离子、有机物、微生物、颗粒物等，以确保水质满足电子半导体制造过程中的严格要求。广泛应用于半导体制造、集成电路制造、平板显示器制造、光电子器件制造等领域。在半导体制造过程中，超纯水用于清洗、蚀刻、掺杂等工艺步骤，确保产品的质量和性能。
1、检查与确认
设备外观检查：仔细查看系统各部件外观是否完好，有无泄漏、损坏迹象，包括管道连接处、阀门、仪表等部位。
电源与气源检查：确保电源供应稳定，电压符合设备要求；对于需要气源的设备，检查气源压力和供气是否正常。
水源检查：确认原水水质符合系统进水要求，如水温、pH值、浊度等指标应在规定范围内。
2、预处理设置
过滤器检查：检查预处理中的过滤器（如砂滤器、活性炭过滤器等）是否安装正确，滤料是否需要更换。如果滤料长时间未更换或已达到使用寿命，应及时更换，以保证过滤效果。
加药系统校准：若预处理中有加药装置（如絮凝剂加药装置），需根据原水水质情况校准加药量，确保混凝沉淀效果良好。
3、系统参数设定
温度设定：根据半导体生产工艺需求，在控制系统中设定超纯水的供水温度。一般来说，不同的工艺环节对水温有不同要求，例如光刻工艺可能需要将水温控制在20-25℃。
压力设定：依据后续工艺设备的用水压力要求，设置系统出水压力。通常，蚀刻工艺可能要求的压力在2-4bar之间，而清洗工艺可能要求1.5-3bar的压力。
流量设定：根据各用水点的用水量需求，合理设置系统的供水流量。可以通过流量计或控制系统中的流量调节功能进行设定。
